Имплантация ионная

[ion implantation] — ХТО в условиях сильноточного тлеющ. разряда м-ду изделием (катодом) и анодом в газ. среде при давлении ниже атм., заключаюш. в бомбардировке пов-ти металла, полупроводника или диэлектрика ионами металлов и неметаллов с целью изменения состава, структуры и св-в пов-тного слоя. И. и. применяется, напр., для создания износост. и кор-розионност. покрытий, состоящих из химич. соединений: карбидов, нитридов, оксидов,
карбонитридов тугоплавких металлов: Ti, Mo, Сг и др.